Reactive magnetron sputtering model at making Ti-TiOx coatings

Luchkin A.; Kashapov N.

Reactive magnetron sputtering model at making Ti-TiOx coatings

Luchkin A.; Kashapov N.

URI: https://dspace.kpfu.ru/xmlui/handle/net/139716

Дата: 2014

Аннотации:

© Published under licence by IOP Publishing Ltd. Mathematical model of reactive magnetron sputtering for plant VU 700-D is described. Approximating curves for experimental current-voltage characteristic for two gas input schemas are shown. Choice of gas input schema influences on model parameters (mainly on pumping speed). Reactive magnetron sputtering model allows develop technology of Ti - TiOx coatings deposition without changing atmosphere and pressure in vacuum chamber.

Показать полную информацию

Файлы в этом документе

Имя: SCOPUS17426588-20 ...

Размер: 43.66Kb

Формат: PDF

Открыть

Данный элемент включен в следующие коллекции

Публикации сотрудников КФУ Scopus [24551]
Коллекция содержит публикации сотрудников Казанского федерального (до 2010 года Казанского государственного) университета, проиндексированные в БД Scopus, начиная с 1970г.