Электронный архив

САМОФОРМИРОВАНИЕ НАНОСТРУКТУР НА ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ В ПРОЦЕССАХ РАСПЫЛЕНИЯ И ПЕРЕОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛЛОВ В ПЛАЗМЕ ВЧ ИНДУКЦИОННОГО РАЗРЯДА

Показать сокращенную информацию

dc.contributor Казанский (Приволжский) федеральный университет
dc.contributor.author Амиров И.И. ru_RU
dc.contributor.author Изюмов М.О. ru_RU
dc.contributor.author Мазалецкий Л.А. ru_RU
dc.date.accessioned 2018-01-10T12:27:42Z
dc.date.available 2018-01-10T12:27:42Z
dc.date.issued 2017
dc.identifier.uri http://dspace.kpfu.ru/xmlui/handle/net/117407
dc.description.abstract Представлены результаты исследования самоформирования наноструктур на поверхности Si в процессах распыления пленки Co и переосаждения атомов Ti, распыляемых с поверхности Ti подложки в плотной аргоновой плазме ВЧ индукционного разряда. ru_RU
dc.description.abstract The results of the self-formation of columnar nanostructures on the Si surface in the processes of Co film sputtering and co-deposion of titanium atoms sputtered from the Ti substrate surface in dense argon plasma of RF-inductive discharge are presented en_US
dc.relation.ispartofseries "ФИЗИКА НИЗКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ" ФНТП-2017 ru_RU
dc.subject - ru_RU
dc.subject - en_US
dc.title САМОФОРМИРОВАНИЕ НАНОСТРУКТУР НА ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ В ПРОЦЕССАХ РАСПЫЛЕНИЯ И ПЕРЕОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛЛОВ В ПЛАЗМЕ ВЧ ИНДУКЦИОННОГО РАЗРЯДА ru_RU
dc.title.alternative SELF-FORMATION OF NANOSTRUCTURES ON THE SILICON SURFACE IN THE PROCESSES OF SPUUERING AND CO-DEPOSITION OF METALS IN RF INDUCTIVE PLASMA en_US
dc.type article
dc.identifier.udk -
dc.description.pages 161-161


Файлы в этом документе

Icon
Размер: 475.0Kb
Формат: PDF
Открыть

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать сокращенную информацию

Поиск в электронном архиве


Расширенный поиск

Просмотр

Моя учетная запись

Статистика