САМОФОРМИРОВАНИЕ НАНОСТРУКТУР НА ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ В ПРОЦЕССАХ РАСПЫЛЕНИЯ И ПЕРЕОСАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛЛОВ В ПЛАЗМЕ ВЧ ИНДУКЦИОННОГО РАЗРЯДА

Abstract

Представлены результаты исследования самоформирования наноструктур на поверхности Si в процессах распыления пленки Co и переосаждения атомов Ti, распыляемых с поверхности Ti подложки в плотной аргоновой плазме ВЧ индукционного разряда.

The results of the self-formation of columnar nanostructures on the Si surface in the processes of Co film sputtering and co-deposion of titanium atoms sputtered from the Ti substrate surface in dense argon plasma of RF-inductive discharge are presented