Проведены эксперименты по высокоскоростному (до 15 мкм/мин) осаждению хромовых покрытий в магнетроне с горячим катодом. Получен устойчивый режим самораспыления. Исследовано влияние метода предварительной очистки поверхности образца, а также потенциала смещения в процессе осаждения на адгезионные характеристики покрытий.
Chromium coatings have been deposited by high-rate (up to 15 μm/min) magnetron sputtering with hot target. The magnetron was operated in a stable self-sputtering regime. The influence of both the sample cleaning method and the bias potential on the adhesion of Cr films have been studied