Электронный архив

Magnetron discharge volt-ampere characteristic investigation at thin film coating process

Показать сокращенную информацию

dc.contributor.author Kashapov N.
dc.contributor.author Luchkin A.
dc.contributor.author Luchkin G.
dc.date.accessioned 2018-09-18T20:25:56Z
dc.date.available 2018-09-18T20:25:56Z
dc.date.issued 2014
dc.identifier.issn 1757-8981
dc.identifier.uri https://dspace.kpfu.ru/xmlui/handle/net/139817
dc.description.abstract © Published under licence by IOP Publishing Ltd. Magnetron discharge at reactive and working gases mixture atmosphere current-voltage characteristic (I-U) for different sputtering parameters is investigated. It is shown, that form of volt-ampere characteristic doesn't depend on gas supply scheme at vacuum chamber pressure 4- 6.10-2 Pa. Reactive gas (oxygen) flow increasing leads to making I-U transition part wider and amplification of difference between top and bottom parts of hysteresis loop I-U. Discharge voltage is less at oxygen and argon gases mixture atmosphere than at argon atmosphere.
dc.relation.ispartofseries IOP Conference Series: Materials Science and Engineering
dc.title Magnetron discharge volt-ampere characteristic investigation at thin film coating process
dc.type Conference Paper
dc.relation.ispartofseries-issue 1
dc.relation.ispartofseries-volume 69
dc.collection Публикации сотрудников КФУ
dc.source.id SCOPUS17578981-2014-69-1-SID84919459240


Файлы в этом документе

Данный элемент включен в следующие коллекции

  • Публикации сотрудников КФУ Scopus [24551]
    Коллекция содержит публикации сотрудников Казанского федерального (до 2010 года Казанского государственного) университета, проиндексированные в БД Scopus, начиная с 1970г.

Показать сокращенную информацию

Поиск в электронном архиве


Расширенный поиск

Просмотр

Моя учетная запись

Статистика