МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА ОСАЖДЕНИЯ ИНТЕРМЕТАЛЛИДНЫХ ПОКРЫТИЙ ИЗ ПЛАЗМЫ ВАКУУМНО-ДУГОВОГО РАЗРЯДА

Abstract

Исследованы физико-химические процессы протекающие в процессе осаждения интерметаллидных покрытий из плазмы вакуумно-дугового разряда. Смоделировано электростатическое поле, создаваемое в вакуумной камере подачей отрицательного потенциала смещения на обрабатываемую деталь. электромагнитных полей на ионные потоки металлов. Разработана математическая модель процесса вакуумного ионно-плазменного осаждения на основе интерметаллида системы Ti-Al с учетом влияния электростатистических и электромагнитных полей на ионные потоки металлов.

The physico-chemical processes taking place in the process of precipitation of intermetallic coatings from the vacuum-arc discharge plasma are studied. An electrostatic field created in a vacuum chamber by applying a negative bias potential to the workpiece is modeled. Electromagnetic fields on the ion fluxes of metals. A mathematical model of the process of vacuum ion-plasma deposition based on the intermetallic compound of the Ti-Al system is developed taking into account the influence of electrostatic and electromagnetic fields on ionic metal fluxes.