Электронный архив

Влияние режимов осаждения на структуру и магнитно-фазовый состав тонких пленок, синтезированных по технологии ионно-стимулированного осаждения

Показать сокращенную информацию

dc.contributor Казанский федеральный университет
dc.contributor.author Абдуллин Радис Раисович
dc.contributor.author Лядов Николай Михайлович
dc.contributor.author Вагизов Фарит Габдулхакович
dc.contributor.author Гумаров Амир Илдусович
dc.contributor.author Ибрагимов Шамиль Зарифович
dc.contributor.author Кузина Диляра Мтыгулловна
dc.contributor.author Файзрахманов Ильдар Абдулкабирович
dc.contributor.author Хайбуллин Рустам Ильдусович
dc.contributor.author Шустов Владимир
dc.date.accessioned 2020-03-23T12:17:15Z
dc.date.available 2020-03-23T12:17:15Z
dc.date.issued 2019
dc.identifier.citation Влияние режимов осаждения на структуру и магнитно-фазовый состав тонких пленок, синтезированных по технологии ионно-стимулированного осаждения / Р.Р. Абдуллин [и др.] // Низкотемпературная плазма в процессе нанесения функциональных покрытий. 2019. - Т. 1, № 10. - С.238-241.
dc.identifier.uri https://dspace.kpfu.ru/xmlui/handle/net/158236
dc.description.abstract Тонкие пленки 57Fe (50-300 нм) были синтезированы методом ионно-стимулированного осаждения (ИСО) на подложках из кварцевого стекла (SiO2) и монокристаллического NaCl со скоростью осаждения 3,2, 10 и 20 нм/мин. Методами сканирующей электронной микроскопии, энергодисперсионного элементного микроанализа, рентгеновской дифракции, мессбауэровской спектроскопии и вибрационной магнитометрии было исследовано влияние режимов осаждения пленок 57Fe на их структуру, магнитно-фазовый состав и перпендикулярную магнитную анизотропию (ПМА). Показано, что источником возникновения ПМА в пленках железа является оксидная фаза железа, которая приводит к возникновению микронапряжений. Максимальная величина микронапряжений наблюдается при низкой скорости осаждения (3,2 нм/мин). С увеличением скорости осаждения (до 20 нм/мин) величина микронапряжений и значение ПМА уменьшаются.
dc.language.iso ru
dc.relation.ispartofseries Низкотемпературная плазма в процессе нанесения функцио-нальных покрытий
dc.rights открытый доступ
dc.subject ионно-стимулированное осаждение
dc.subject пленки железа
dc.subject перпендикулярная магнитная анизотропия
dc.subject мессбауэровская спектроскопия
dc.subject.other Физика
dc.title Влияние режимов осаждения на структуру и магнитно-фазовый состав тонких пленок, синтезированных по технологии ионно-стимулированного осаждения
dc.type Article
dc.contributor.org Химический институт им. А.М. Бутлерова
dc.description.pages 238-241
dc.relation.ispartofseries-issue 10
dc.relation.ispartofseries-volume 1
dc.pub-id 216084


Файлы в этом документе

Данный элемент включен в следующие коллекции

Показать сокращенную информацию

Поиск в электронном архиве


Расширенный поиск

Просмотр

Моя учетная запись

Статистика