Электронный архив

Deciphering mechanisms of enhanced-retarded oxygen diffusion in doped Si

Показать сокращенную информацию

dc.contributor.author Timerkaeva D.
dc.contributor.author Caliste D.
dc.contributor.author Pochet P.
dc.date.accessioned 2018-09-18T20:01:25Z
dc.date.available 2018-09-18T20:01:25Z
dc.date.issued 2013
dc.identifier.issn 0003-6951
dc.identifier.uri https://dspace.kpfu.ru/xmlui/handle/net/135825
dc.description.abstract We study enhanced/retarded diffusion of oxygen in doped silicon by means of first principle calculations. We evidence that the migration energy of oxygen dimers cannot be significantly affected by strain, doping type, or concentration. We attribute the enhanced oxygen diffusion in p-doped silicon to reduced monomer migration energy and the retarded oxygen diffusion in Sb-doped to monomer trapping close to a dopant site. These two mechanisms can appear simultaneously for a given dopant leading to contradictory experimental results. More generally, our findings cast a new light on phenomena involving oxygen diffusion: precipitation, thermal donors formation, and light induced degradation. © 2013 AIP Publishing LLC.
dc.relation.ispartofseries Applied Physics Letters
dc.title Deciphering mechanisms of enhanced-retarded oxygen diffusion in doped Si
dc.type Article
dc.relation.ispartofseries-issue 25
dc.relation.ispartofseries-volume 103
dc.collection Публикации сотрудников КФУ
dc.source.id SCOPUS00036951-2013-103-25-SID84891380344


Файлы в этом документе

Данный элемент включен в следующие коллекции

  • Публикации сотрудников КФУ Scopus [24551]
    Коллекция содержит публикации сотрудников Казанского федерального (до 2010 года Казанского государственного) университета, проиндексированные в БД Scopus, начиная с 1970г.

Показать сокращенную информацию

Поиск в электронном архиве


Расширенный поиск

Просмотр

Моя учетная запись

Статистика